Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54081
Title: Моделирование процесса ионной имплантации методом молекулярной динамики
Authors: Ли, Биньчэнь
metadata.dc.contributor.advisor: Чистякова, Надежда Владимировна
Keywords: метод молекулярной динамики; пакет LAMMPS; ионная имплантация; механические свойства; дефекты кристаллической решетки; molecular dynamics method; LAMMPS package; ion implantation; mechanical properties; lattice defects
Issue Date: 2019
Citation: Ли Б. Моделирование процесса ионной имплантации методом молекулярной динамики : бакалаврская работа / Б. Ли ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ) ; науч. рук. Н. В. Чистякова. — Томск, 2019.
Abstract: Объект исследований – молекулярно динамическая модель процесса ионной имплантации. Рассчеты выполнены для систем медь – железо и алюминий – титан.
The object of research is a molecular dynamic model of the process of ion implantation. Calculations are made for systems copper - iron and aluminum - titanium.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54081
Appears in Collections:ВКР

Files in This Item:
File SizeFormat 
TPU717057.pdf3,27 MBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.