Моделирование процесса ионной имплантации методом молекулярной динамики

Ли, Биньчэнь

Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54081

Title:	Моделирование процесса ионной имплантации методом молекулярной динамики
Authors:	Ли, Биньчэнь
metadata.dc.contributor.advisor:	Чистякова, Надежда Владимировна
Keywords:	метод молекулярной динамики; пакет LAMMPS; ионная имплантация; механические свойства; дефекты кристаллической решетки; molecular dynamics method; LAMMPS package; ion implantation; mechanical properties; lattice defects
Issue Date:	2019
Citation:	Ли Б. Моделирование процесса ионной имплантации методом молекулярной динамики : бакалаврская работа / Б. Ли ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение экспериментальной физики (ОЭФ) ; науч. рук. Н. В. Чистякова. — Томск, 2019.
Abstract:	Объект исследований – молекулярно динамическая модель процесса ионной имплантации. Рассчеты выполнены для систем медь – железо и алюминий – титан. The object of research is a molecular dynamic model of the process of ion implantation. Calculations are made for systems copper - iron and aluminum - titanium.
URI:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/54081
Appears in Collections:	Выпускные квалификационные работы (ВКР)

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
TPU717057.pdf		3,27 MB	Adobe PDF	View/Open

Show full item record Google Scholar