Please use this identifier to cite or link to this item:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25997| Title: | Влияние напряжения смещения на морфологию поверхности и структуру азотсодержащих тонких пленок диоксида титана |
| Other Titles: | Influence of bias voltage on the surface morphology and structure of nitrogen-containing titanium dioxide thin films |
| Authors: | Иванова, Нина Михайловна Пустовалова, Алла Александровна |
| metadata.dc.contributor.advisor: | Пичугин, Владимир Федорович |
| Keywords: | диоксид титана; физико-химические свойства; электрические свойства; магнетронные распылительные системы; нержавеющие стали |
| Issue Date: | 2016 |
| Publisher: | Изд-во ТПУ |
| Citation: | Иванова Н. М. Влияние напряжения смещения на морфологию поверхности и структуру азотсодержащих тонких пленок диоксида титана / Н. М. Иванова, А. А. Пустовалова ; науч. рук. В. Ф. Пичугин // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 112-114]. |
| Abstract: | Nitrogen-TiO2 thin films have been deposited by the reactive magnetron sputtering by using differentO2/N2 gas ratios and negative bias voltage. This work reports on the study results of the changes in the surfacemorphology, structure and phase composition of the thin films depending on deposition modes. SEM analysisshowed the reduction of grains with nitrogen introduction. XRD data demonstrated phase transition in the filmsthrough the nitrogen incorporation and bias voltage applying. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/25997 |
| Appears in Collections: | Материалы конференций |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| conference_tpu-2016-C21_V1_p112-114.pdf | 1,69 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.