Please use this identifier to cite or link to this item: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501
Title: Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления
Other Titles: Microstructure analysis of titanium oxynitride films deposited by reactive magnetron sputtering
Authors: Сунь Чжилэй
Конищев, Максим Евгеньевич
Пустовалова, Алла Александровна
metadata.dc.contributor.advisor: Пичугин, Владимир Федорович
Keywords: биосовместимость; имплантаты; медицинское материаловедение; гладкомышечные клетки; гемосовместимость
Issue Date: 2017
Publisher: Изд-во ТПУ
Citation: Сунь Чжилэй. Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления / Сунь Чжилэй, М. Е. Конищев, А. А. Пустовалова ; науч. рук. В. Ф. Пичугин // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2017. — Т. 1 : Физика. — [С. 423-425].
Abstract: This paper presents the structure analysis results of TiOxNy films, deposited using reactive magnetron sputtering with different O2/N2 flow ratio. The impact of increase of N2 flow upon the films structure has been studied. The analysis was carried out by X-ray diffraction method. The lattice parameters and phase composition were calculated using PowderCell 2.4.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501
Appears in Collections:Материалы конференций

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
conference_tpu-2017-C21_V1_p423-425.pdf368,13 kBAdobe PDFView/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.