Please use this identifier to cite or link to this item:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48183
Title: | Структура пленок, напыляемых в слабом магнитном поле путем магнетронного распыления вещества |
Authors: | Мельников, Антон Леонидович |
metadata.dc.contributor.advisor: | Мышкин, Вячеслав Федорович |
Keywords: | магнетронные распылительные системы; реактивное магнетронное распыление; металлические пленки оксида меди; SEM-изображения; Морфологическая структура пленок оксида меди; Magnetron sputtering; Reactive magnetron sputtering; CuO films; SEM-images; Morphological structure CuO films |
Issue Date: | 2018 |
Citation: | Мельников А. Л. Структура пленок, напыляемых в слабом магнитном поле путем магнетронного распыления вещества : магистерская диссертация / А. Л. Мельников ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение ядерно-топливного цикла (ОЯТЦ) ; науч. рук. В. Ф. Мышкин. — Томск, 2018. |
Abstract: | Объектом исследования являются плёнки меди, полученные с помощью МРС.
Цель работы - исследование пленок, образующихся в слабом постоянном магнитном поле из плазмы магнетронного разряда.
В процессе работы проводились: экспериментальные исследования работы магнетронных распылительных систем в среде смеси газов (аргон, кислород), получение покрытий меди, исследовалась кристаллическая и морфологическая структура и влияние слабого магнитного поля на её формирование.
Область применения данного покрытия: создание и усовершенствование полупроводниковых и фотоэлектронных элементов. The object of the study are copper films obtained by magnetron . The purpose of this work is to study films formed in a weak constant magnetic field from a plasma of a magnetron discharge. In the course of the work, the following experiments were carried out: experimental studies of the operation of magnetron sputtering systems in a mixture of gases (argon, oxygen), the production of copper coatings, the crystal and morphological structure and the influence of a weak magnetic field on its formation were studied. The scope of this coating: the creation and improvement of semiconductor and photoelectronic elements. |
URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48183 |
Appears in Collections: | Магистерские диссертации |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
TPU557120.pdf | 1,95 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.