Please use this identifier to cite or link to this item:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48282| Title: | Структура пленок, напыляемых в магнитном поле путем термического испарения вещества |
| Authors: | Лютиков, Олег Николаевич |
| metadata.dc.contributor.advisor: | Мышкин, Вячеслав Федорович |
| Keywords: | магнитное поле; термическое испарение; пленка; поверхность; кристалл; magnetic field; thermal evaporation; film; surface; crystal |
| Issue Date: | 2018 |
| Citation: | Лютиков О. Н. Структура пленок, напыляемых в магнитном поле путем термического испарения вещества : бакалаврская работа / О. Н. Лютиков ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение ядерно-топливного цикла (ОЯТЦ) ; науч. рук. В. Ф. Мышкин. — Томск, 2018. |
| Abstract: | Технологии напыления пленок легирующих элементов широко используются при формировании полупроводниковых и фотоэлектронных компонентов. При этом необходимо формировать пленки с заданными параметрами.Изучается возможность формирования пленок заданного кристаллического состава с помощью внешнего постоянного магнитного поля из паров напыляемого материала. Technologies for the deposition of films of alloying elements are widely used in the formation of semiconductor and photoelectronic components. It is necessary to form films with given parameters. The possibility of forming films of a given crystalline composition by means of an external constant magnetic field from vapor of the deposited material is studied. |
| URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48282 |
| Appears in Collections: | Выпускные квалификационные работы (ВКР) |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| TPU560809.pdf | 1,07 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.