Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48282
Название: Структура пленок, напыляемых в магнитном поле путем термического испарения вещества
Авторы: Лютиков, Олег Николаевич
Научный руководитель: Мышкин, Вячеслав Федорович
Ключевые слова: магнитное поле; термическое испарение; пленка; поверхность; кристалл; magnetic field; thermal evaporation; film; surface; crystal
Дата публикации: 2018
Библиографическое описание: Лютиков О. Н. Структура пленок, напыляемых в магнитном поле путем термического испарения вещества : бакалаврская работа / О. Н. Лютиков ; Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ), Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ), Отделение ядерно-топливного цикла (ОЯТЦ) ; науч. рук. В. Ф. Мышкин. — Томск, 2018.
Аннотация: Технологии напыления пленок легирующих элементов широко используются при формировании полупроводниковых и фотоэлектронных компонентов. При этом необходимо формировать пленки с заданными параметрами.Изучается возможность формирования пленок заданного кристаллического состава с помощью внешнего постоянного магнитного поля из паров напыляемого материала.
Technologies for the deposition of films of alloying elements are widely used in the formation of semiconductor and photoelectronic components. It is necessary to form films with given parameters. The possibility of forming films of a given crystalline composition by means of an external constant magnetic field from vapor of the deposited material is studied.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/48282
Располагается в коллекциях:Выпускные квалификационные работы (ВКР)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
TPU560809.pdf1,07 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.