Выбор режимов процесса электронно-лучевой аддитивной технологии

Abstract

В данном исследовании электронно-лучевое плавление (EBM) было использовано для получения аддитивным методом однослойных образцов - монослоев из алюминиевой проволоки на подложке из титана с целью получения интерметаллида системы Ti-Al. Были исследованы изменения в строении монослоев под воздействием изменения тока в интервале 6.5-9.5 мА и изменения точки подачи проволоки в интервале 1.5-3.5 мм. Для дальнейшего наращивания образца были выбраны подходящие экспериментальные параметры.

In this study, electron-beam melting (EBM) was used to produce single-layer samples, monolayers of aluminum wire on a titanium substrate, in order to get an intermetallide of the Ti-Al system. Changes in the structure of monolayers under the influence of current in the range of 6.5-9.5 mA and changes in the wire feeding point in the range of 1.5-3.5 mm were investigated. Suitable experimental parameters were chosen for further sample buildup.