Влияние технологических параметров на термостабильность поверхностного сопротивления плёнок ITO, осаждённых магнетронным распылением

Abstract

Объектом исследования являются плёнки оксида индия, легированные оловом, полученные методом плазменного магнетронного распыления керамической мишени. Цель работы – исследование влияния параметров осаждения на термостабильность получаемых покрытий ITO при магнетронном осаждении. В процессе исследования проводилось получение зависимостей поверхностного сопротивления образцов в зависимости от изменяемых параметров, а также отслеживалось влияние режимов осаждения на оптические и морфологические параметры получаемых покрытий. В результате исследования были разработаны методики получения плёнок ITO, п

The object of the study is indium oxide films doped with tin, obtained by plasma magnetron sputtering of a ceramic target. The purpose of this work is to study the effect of deposition parameters on the thermal stability of the obtained ITO coatings during magnetron deposition. In the course of the study, the dependences of the surface resistance of the samples were obtained depending on the variable parameters, and the influence of the deposition modes on the optical and morphological parameters of the resulting coatings was monitored. As a result of the study, methods for obtaining ITO films were developed, in which they retain their thermal stability in the temperature range from 20 to 150 Celsium degrees