Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс:
http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798
Название: | Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона |
Авторы: | Зайцев, Даниил Дмитриевич |
Научный руководитель: | Евдокимов, Кирилл Евгеньевич |
Ключевые слова: | магнетронные распылительные системы; МРС; тонкопленочные покрытия; плазма; математическая модель; магнитное поле; планарный магнетрон |
Дата публикации: | 2023 |
Издатель: | Томский политехнический университет |
Библиографическое описание: | Зайцев, Д. Д. Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона / Д. Д. Зайцев ; науч. рук. К. Е. Евдокимов ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2023. — Т. 1 : Физика. — С. 168-170. |
Аннотация: | Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model |
URI: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798 |
Располагается в коллекциях: | Материалы конференций |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
conference_tpu-2023-C21_V1_p168-170.pdf | 1,09 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Лицензия на ресурс: Лицензия Creative Commons