Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798
Название: Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона
Авторы: Зайцев, Даниил Дмитриевич
Научный руководитель: Евдокимов, Кирилл Евгеньевич
Ключевые слова: магнетронные распылительные системы; МРС; тонкопленочные покрытия; плазма; математическая модель; магнитное поле; планарный магнетрон
Дата публикации: 2023
Издатель: Томский политехнический университет
Библиографическое описание: Зайцев, Д. Д. Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона / Д. Д. Зайцев ; науч. рук. К. Е. Евдокимов ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ // Перспективы развития фундаментальных наук — Томск : Изд-во ТПУ, 2023. — Т. 1 : Физика. — С. 168-170.
Аннотация: Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
conference_tpu-2023-C21_V1_p168-170.pdf1,09 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Лицензия на ресурс: Лицензия Creative Commons Creative Commons