Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Название: Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий
Другие названия: The research of reactive ion and plasma-chemical etching effect on a diamond coatings surface morphology
Авторы: Охотников, Виталий Владимирович
Линник, Степан Андреевич
Гайдайчук, Александр Валерьевич
Научный руководитель: Линник, Степан Андреевич
Ключевые слова: алмазные покрытия; полупроводниковая электроника; теплопроводность; оптические элементы; плазмохимическое травление
Дата публикации: 2016
Издатель: Изд-во ТПУ
Библиографическое описание: Охотников В. В. Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий / В. В. Охотников, С. А. Линник, А. В. Гайдайчук ; науч. рук. С. А. Линник // Перспективы развития фундаментальных наук : сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. : в 7 т. — Томск : Изд-во ТПУ, 2016. — Т. 1 : Физика. — [С. 205-207].
Аннотация: The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.
URI: http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Располагается в коллекциях:Материалы конференций

Файлы этого ресурса:
Файл РазмерФормат 
conference_tpu-2016-C21_V1_p205-207.pdf478,71 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.